Photolithography
Fotolitografie je fotoprůmyslový proces používaný především při výrobě polovodičových zařízení a integrovaných obvodů. Tento proces zahrnuje použití světla k přenosu vzoru z masky na fotosenzitivní materiál, známý jako fotorezist, který pokrývá substrát. Fotolitografie probíhá v několika krocích, včetně nanášení fotorezistu, osvětlení vzoru, vyvolání a následného leptání. Fotolitografie byla klíčovým nástrojem v miniaturizaci elektroniky, což vedlo k výraznému zmenšení velikosti a zvýšení výkonu integrovaných obvodů. Technika se postupně vyvinula a nyní zahrnuje pokročilé metody, jako je extrémní ultrafialová (EUV) litografie, která umožňuje dosáhnout menších rozměrů vzorů. Hlavní výzvy současné fotolitografie zahrnují zvládání difrakce světla při výrobě komponentů na nanometrové úrovni a udržení vysoké přesnosti a reprodukovatelnosti výrobních procesů. Fotolitografie hraje zásadní roli v moderním technologickém průmyslu, zejména v oblasti výroby počítačových čipů a dalších elektronických zařízení.